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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務商

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PVD工藝的目的是什么?

時間:2020-08-16    點擊數(shù):

濺射法利用帶有電荷的離子在電場中加速后具有一定動能的特點,將離子引向欲被濺射的物質做成的靶電極。在離子能量合適的情況下,入射離子在與靶表面原子的碰撞過程中將后者濺射出來。這些被濺射出來的原子帶有一定的動能,并且會沿著一定的方向射向襯底——玻璃基板,從而沉積在基板表面形成薄膜。

?在上述薄膜沉積的過程中,離子的產(chǎn)生過程與等離子體的產(chǎn)生或氣體的放電現(xiàn)象密切相關。?

本文網(wǎng)址:http://m.tiexinren.cn/news/441.html

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